横山FIRST活動サマリ
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データ編DATA特許出願(公開済)名称発明者権利者種類・番号出願日国内外の別積層型半導体装置及びその製造方法池田 圭司、 手塚 勉 、上牟田 雄一、古瀬 喜代恵産総研 (東芝へ譲渡予定)(台湾公開)2014014872013年3月12日国外(台湾)相補型半導体装置及びその製造方法手塚 勉、池田 圭司、上牟田 雄一、小池 正浩産総研 (東芝へ譲渡予定)WO2013/1613312013年1月17日国外 (PCT)電子デバイス及びグラフェンの製造方法川端 章夫産総研特開2013-1791822012年2月28日国内ナノワイヤ及びその製造方法川端 章夫産総研特開2013-1701012012年2月21日国内半導体装置及びその製造方法小田 穣、入沢 寿史、手塚 勉産総研特開2013-1458002012年1月13日国内半導体記憶装置およびその製造方法森川 貴博、新谷 俊通産総研 (日立へ譲渡予定)US-2013-0221310-A12013年2月22日国外 (米国)抵抗変化メモリ中野 美尚産総研特開2013-1971722012年3月16日国内スピン電子メモリ及びスピン電子回路富永 淳二、Kolobov Alexander、Fons Paul産総研(台湾公開) 2013360512012年11月28日国外 (台湾)スピン電子メモリ及びスピン電子回路富永 淳二、Kolobov Alexander、Fons Paul産総研WO2013/1251012012年11月2日国外 (PCT)素子形成用基板及びその製造方法池田 圭司産総研 (東芝へ譲渡予定)(台湾公開) 2013300972012年11月15日国外 (台湾)半導体装置およびその製造方法小池 正浩、上牟田 雄一、手塚 勉産総研 (東芝へ譲渡予定)(台湾公開) 2013302722012年11月22日国外 (台湾)相変化メモリ新谷 俊通、小高 貴浩、森川 貴博産総研 (日立へ譲渡予定)US-2013-0048938-A12012年8月20日国外 (米国)電子装置原田 直樹、佐藤 信太郎産総研 (富士通へ譲渡予定)特開2013-0460282011年8月26日国内相変化メモリ新谷 俊通、小高 貴浩、森川 貴博産総研 (日立へ譲渡予定)特開2013-0459542011年8月25日国内不揮発性半導体記憶装置小高 貴浩、新谷 俊通、森川 貴博産総研特開2013-0458922011年8月24日国内グラフェンの合成方法並びに半導体装置及びその製造方法近藤 大雄産総研特開2013-0211492011年7月12日国内化合物半導体装置の製造方法入沢 寿史、小田 穣、手塚 勉産総研特開2013-0088322011年6月24日国内グラフェンリボンの製造方法 林 賢二郎産総研 (富士通へ譲渡予定)特開2013-0067422011年6月24日国内半導体装置及びその製造方法中払 周産総研特開2013-0047182011年6月16日国内炭素膜の形成装置、及び炭素膜の形成方法 中野 美尚産総研特開2012-2461932011年5月30日国内電子デバイス及びその製造方法佐藤 信太郎産総研 (富士通へ譲渡予定)特開2012-2128772012年3月16日国内トンネルトランジスタの製造方法森 貴洋、堀川 剛産総研特開2012-2045832011年3月25日国内固体メモリ富永淳二、Kolobov Alexander、Fons Paul、新谷俊通、小高貴浩、森川貴博産総研特開2012-1822422011年2月28日国内固体メモリ富永淳二、Kolobov Alexander、Fons Paul、新谷俊通、小高貴浩、森川貴博産総研WO2012/117773A12012年1月25日国外 (PCT)他に出願中(未公開):国内79件、国外69件、および国外出願予定20件あり主催した学術シンポジウム等開催期間実施事業者標題主な会場 (収容可能人数)参加者数2013年12月17日産業技術総合研究所「グリーン・ナノエレクトロニクスのコア技術開発」最終成果報告会イイノホール&カンファレンスセンター (500人)400人2013年12月16日つくばイノベーションアリーナナノテクノロジー拠点運営最高会議第4回つくばイノベーションアリーナ(TIA-nano)公開シンポジウムイイノホール&カンファレンスセンター (500人)275人2013年6月27日、28日つくばイノベーションアリーナナノテクノロジー拠点運営最高会議TIA-nano ワークショップ産総研TIA連携棟 (150人)350人2013年3月13日産業技術総合研究所グリーン・ナノエレクトロニクスのコア技術開発 2013年 成果報告会一橋講堂 (500人)350人2012年7月19日つくばイノベーションアリーナナノテクノロジー拠点運営最高会議第3回つくばイノベーションアリーナ(TIA-nano)公開シンポジウム一橋講堂 (500人)300人2012年3月14日産業技術総合研究所International Symposium on Development of Core Technologies for Green Nanoelectronics日本科学未来館 (300人)254人2011年11月25日産業技術総合研究所第2回つくばイノベーションアリーナ公開シンポジウム芝浦工業大学 豊洲キャンパス (500人)350人2011年2月16日産業技術総合研究所ナノテク国際シンポジウム東京ビッグサイト (1,000人)300人64

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